这台新的晶体管制造设备被视为芯片行业的一次重大革命,它是世界上首个采用高数值孔径的极紫外光刻系统,简称为 High NA EUV。这种设备是英特尔、ASML 及其供应商三十多年紧密合作的成果,可能是迄今为止人类制造的最复杂的设备之一。
当这台机器最终抵达工厂并开始组装时,所有这些年的准备工作—设计图纸、动画演示以及具体的运输和处理计划—都变成了现实。这是一个非常激动人心的时刻。High NA EXE:5000 型光刻机能够在硅晶片上精确投射电路图案,对芯片性能的提升有着不可估量的影响。这种技术的发展是摩尔定律持续实现的关键,预计将推动未来多个技术节点的发展。